Laboratory Equipement

CNC

Machine qui va utiliser un laser de gaz CO2 pour couper ou graver avec une très grande précision des matériaux

Tool used for photolithography

Ces lampes ultraviolettes sont utilisées dans le processus de photolithographie pour modifier la chimie de la résine photosensible (photorésiste) selon un motif déterminé. Dans la photolithographie avec masque, le motif voulu est sur un masque avant d'être placé sur la résine photoactive.

This hood is designed for the fabrication of small substrate at the size of microns like miniature patterns or objects

Utilisé pour créer des masques de motif souhaités pour des projets de photolithographie qui sont ensuite utilisés avec les lampes UV et la résine photosensible.

Cette machine utilise des filaments pour imprimer des objets en trois dimensions.

Cette machine permet de créer un film, souvent photorésistant, sur la surface d'un substrat à partir d'un liquide en le faisant tourner. Le substrat est la plupart du temps, dans le laboratoire, une tranche (wafer) d'un semi-conducteur. La rotation permet d'assurer que le film soit uniforme et n'ait pas d'impureté. Une valve est également présente pour créer un vide durant le processus, donc retirer l'air se retrouvant dans le spincoater. C'est un processus plus communément référer en tant que "spin coating".

Cette machine a pour but d'appliquer un film sec photorésistant sur un substrat qui sera utilisé dans des processus de lithographie sans masques. La machine utilise deux rouleaux chauffés à des températures très élevées afin de faire adhérer solidement le film au substrat sans aucune bulle.